LNEYA工業用冷凍機 メーカー サプライヤー
半導体拡散炉構成温度制御装置
1052半導体産業において、拡散炉は半導体材料の表面にドーピング層を製造するために使用される装置である。高温加熱と制御された拡散雰囲気によってドーピングプロセスを実現する。
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半導体産業において、拡散炉は半導体材料の表面にドーピング層を製造するために使用される装置である。高温加熱と制御された拡散雰囲気によってドーピングプロセスを実現する。
詳細を見るパワー・マネージメント・チップ温度テスト・システムは、異なる温度環境における半導体チップの性能と信頼性をテストするために使用される重要な装置である。この種の試験装置を購入する際には、...
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It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer...
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温度制御範囲：-45℃～250℃ ；電力範囲：2.5kW～25kW ；温度制御精度：±0.3℃ チップ専用高温・低温テストボックス 半導体電子部品の製造において、過酷な環境下で使用される。
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温度制御範囲：-45℃～250℃ ；電力範囲：2.5kW～25kW ；温度制御精度：±0.3℃ チップ専用高温・低温テストボックス 半導体電子部品の製造において、過酷な環境下で使用される。
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