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Industrial Process Chiller System replaces cooling tower;

Supports both indoor and outdoor options.

TEMPERATURE RANGE -100℃~135℃

TEMPERATURE ACCURACY ±0.5℃

アプリケーション Use for industrial, labortory reation or testing etc.(Water Chiller & Air Chiller)

モデル LT 10℃~30℃  LT-25℃~30℃  LT -45℃~30℃  LT -60℃~-30℃  LT -80℃~-40℃
冷却能力 3KW~14KW 1.5KW~5KW 1.6KW~4.8KW 0.7KW~4.8KW 0.4KW~2.5KW
フロー制御 30L/min~50L/min
冷媒 R-134A / R407C R-404A / R507C R-404A / R507C R-404A/R23 R-404A/R23
温度制御精度 ±0.5℃ ±0.5℃ ±0.5℃ ±0.5℃ ±0.5℃
冷却能力
-15℃
3KW~14KW@15℃ 1.5KW~5KW@-15℃ 0.7KW~2.5KW@-35℃ 1.3KW~4.8KW@-40℃ 0.7KW~2.5KW@-60℃

アプリケーション various reactors, distillation or extraction systems, laboratories, research institutes, chemical, pharmaceutical, petrochemical, biochemical, medical, research semiconductor testing, aerospace, and other industries.

モデル LTZ -40℃~90℃ LTZ 5℃~30℃  LTZ -25℃~30℃  LTZ -45℃~20℃  LTZ -60℃~-30℃  LTZ -80℃~-50℃  LTZ -115℃~-80℃
冷却能力 0.7KW~11.5KW 23KW~300KW 7KW~117.5KW 2.85KW~61.56KW 4.9KW~93.2KW 3.7KW~78.5KW 0.6KW~2.8KW
加熱パワー 2.5kW~10KW            
温度制御精度 ±0.3℃ ±0.3℃ ±0.3℃ ±0.3℃ ±0.3℃ ±0.3℃ ±0.3℃
循環ポンプ
フローマックス
30L/min 1.6bar

2℃~5℃のDI水需要の生産プロセスに適しています。常温のDI水が温度制御ユニットに入り、目標温度のD1水を出力することで、5℃以内の水が凍結しやすいという問題を解決します。

温度範囲 LTZ 2℃~+20℃
冷却能力@3℃ 5KW~25KW
温度制御精度 ±0.5℃
空冷式と水冷式の両方をご用意しております。幅広くご利用いただいておりますので、ご相談やカスタマイズも承っております。

温度範囲 LG -25℃~5℃  LG -45℃~-10℃ LG -60℃~-10℃ LG -80℃~-30℃ LG -115℃~-50℃
冷却能力 111KW~318KW 70KW~180KW 87KW~238KW 48KW~131KW 48KW~131KW
冷凍能力 74KW~205KW 48KW~113KW 94KW~260KW 76KW~213KW 76KW~213KW
冷媒 R404A R404A R404A R404A R404A
空冷式と水冷式の両方をご用意しております。幅広くご利用いただいておりますので、ご相談やカスタマイズも承っております。

Suitable for temperature control applications such as microchannelreactors, plate heat exchangers, cold plates, heat sink plates, andtubular reactors with small heat exchange areas, large refrigerationcapacities, and small temperature differences.

モデル

ZLTZ-3

ZLTZ-3W

ZLTZ-6

ZLTZ-6W

ZLTZ-10

ZLTZ-10W

ZLTZ-3-3

ZLTZ-3-3W

ZLTZ-3-6

ZLTZ-3-6W

ZLTZ-3-10

ZLTZ-3-10W

ZLTZ-6-3

ZLTZ-6-3W

ZLTZ-6-6

ZLTZ-6-6W

ZLTZ-6-10

ZLTZ-6-10W

温度範囲  -10 ℃~+25℃ -10℃~+25℃ -10℃~+25℃ -30 ℃~+25℃ -30℃~+25℃ -30℃~+25℃ -65 ℃~-30℃ -65℃~-30℃ -65℃~-30℃
温度制御精度 ±0.3℃
Cooling capacity 50HZ @0℃ 5kW @0℃ 10kW @0℃ 16kW @-20℃ 3kW @-20℃ 6.5kW @-20℃ 11kW @-50℃ 2.6kW @-50℃ 5kW @-50℃ 8kW

Used in semiconductor industry packaging and testing processes, semiconductor FAB process temperature control, cooling of CMOS/CCD sensors in semiconductor metrology systems, circulating cooling of semiconductor metrology AOI systems,

モデル FLTZ周波数変換シリーズ Multi-channel Series Heat Exchange Series ETCU
温度範囲 -45℃~+90℃ -45℃~+100℃ 5℃~+90℃
冷却能力 1KW~40KW 2KW~6KW 5KW~300W
温度制御精度 ±0.05℃ ±0.05℃ ±0.05℃
冷却水流量@20 1.5m³/h~9m³/h 1.2m³/H~10.2m³/H 1.5m³/H~8m³/H
空冷式と水冷式の両方をご用意しております。幅広くご利用いただいておりますので、ご相談やカスタマイズも承っております。

当社は自動車業界のお客様に高性能デバイスを提供しています。これらのデバイスは、-40℃から+160℃までの全温度範囲を動的にカバーするだけでなく、テストベンチで求められる急激な温度変化にも対応します。

KRYシリーズ -20℃~+100℃ -40℃~+100℃ -20℃~+100℃ 6S -40℃~+100℃ 6S -40℃~+100℃ 2T 0℃~+100℃ 0℃~+100℃ 6S -40℃~+100℃ 2T
温度制御精度 ±0.3℃
流量精度 ±0.2 L/分
暖房能力 5.5KW~38KW 5.5KW~60KW 15KW~38KW 15KW~38KW 7.5KW*2~38KW*2 2.5KW~38KW 15KW~38KW 2.5KW*2~38KW*2
冷却能力 2.8KW~38KW 1.2KW~60KW 10KW~60KW 5KW~60KW 1.8KW*2~60KW*2 1.8KW~60KW 18KW~60KW 1.8KW*2~60KW*2
力 380V50HZ 11KW~45KW 10KW~84KW 36KW~75KW 38KW~82KW 28KW~158KW 4.5KW~61KW 38KW~82KW 9KW~120KW

空冷式と水冷式の両方をご用意しております。幅広くご利用いただいておりますので、ご相談やカスタマイズも承っております。

”T” 温度/圧力/流量は個別に制御できます。「S」温度は一定で、圧力/流量は個別に制御されます。

新エネルギー自動車部品試験新エネルギー自動車部品試験

新エネルギー自動車と三電気システムの流量、圧力、温度の高精度制御をカバーし、製品は新エネルギーチラー、パワーバッテリー温度循環ボックス、直接冷却、直接加熱ユニットなどを含む。

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原薬・中間体製造原薬・中間体製造

原薬の製造プロセスには、化学合成、発酵、動植物抽出、その他の方法がある。それぞれの方法は、化学反応速度、製品の選択性、製品の品質に影響を与えるため、正確な温度制御に依存している。

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新素材と特殊ガス製造新素材と特殊ガス製造

構造材料、機能材料、酸素、窒素、アルゴンなどの工業用ガスの製造には、製品の品質と生産効率を確保するために精密な温度制御が必要です。

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バイオメディカル・プロダクションバイオメディカル・プロダクション

タンパク質発現、酵素触媒反応、細胞培養などのバイオ医薬品プロセスでは、わずかな温度変化が生物学的活性物質の正常な発現と機能に直接影響する。

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マイクロチャンネル&チューブラーリアクターマイクロチャンネル&チューブラーリアクター

マイクロチャンネル管状リアクターは、化学工業、製薬工業、バイオテクノロジーなど多くの分野で広く使用されている。その核心的な利点の一つは、そのユニークな構造と設計による優れた温度制御能力にあります。

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蒸留濃度蒸留濃度

蒸留濃縮は重要な分離・精製技術であり、その基本原理は、混合物中の各成分の揮発性の差を利用し、加熱条件下で揮発性成分を気化させ、凝縮させて回収することにより、分離・濃縮の目的を達成することである。

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半導体FABプロセス半導体FABプロセス

半導体FABプロセスは、現代のエレクトロニクス産業の要である。半導体材料を集積回路チップに加工する一連の複雑なプロセスでは、温度制御が重要な役割を果たします。

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半導体パッケージング&テストプロセス半導体パッケージング&テストプロセス

パッケージングとテストには、ウェハー・テスト、チップ・パッケージング、ポスト・パッケージング・テストが含まれる。高い温度精度と信頼性が要求されるだけでなく、製品の品質と性能を保証するために厳密な管理が必要です。

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航空宇宙材料・試験装置航空宇宙材料・試験装置

高温、高圧、高速、微小重力などの特殊環境では、材料に高い要求が課されます。そのため、試験装置を通して温度を精密に制御し、これらの極限条件下での材料の性能をシミュレート・検証します。

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水素エネルギー産業水素エネルギー産業

水素の製造、貯蔵、輸送、水素化、そして下流のアプリケーションでは、それぞれのリンクにおいて厳密な温度管理が要求される。

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化学媒体直接温度制御 化学媒体直接温度制御

直接化学媒体に入り、正確に温度を制御することができ、化学反応前の媒体の予熱と予冷温度制御として、化学媒体のフッ化水素酸、硫酸などは、濃度と温度が満たされているかどうかを確認する必要があります。

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VOC 結露回収VOC 結露回収

VOCSガスやその他の電子ガスを誘引通風ファンを介して装置に接続し、温度を下げることでガスを液化して回収タンクに捕捉・分離し、その他のガスは排出することで、ガスの凝縮・捕捉・回収を実現する。

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極低温材料加工極低温材料加工

極低温処理は、材料の硬度、靭性、耐食性、加工性能、導電性などを向上させることができ、熱処理工程における幅広い用途があります。

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蒸留濃度
半導体FABプロセス
半導体パッケージング&テストプロセス
航空宇宙材料・試験装置
水素エネルギー産業
化学媒体直接温度制御
VOC 結露回収
極低温材料加工

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LNEYAの産業用冷温水機は世界各国で販売されています。シンガポール、マレーシア、日本、韓国、カタール、中東諸国、オーストラリア、オランダ、スペイン、アメリカなどのヨーロッパ諸国、その他の地域。

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