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お客様のニーズを満たすカスタマイズされたプロセス温度制御ソリューション。
ダイナミック温度制御システム SUNDIシリーズ
温度範囲 -100℃~250℃ 温度精度 ±0.5℃
ラボラトリーチラーの組み合わせ動画
冷却能力 0.3kW~80kW
加熱能力 3kW~80kW
媒体温度精度 ±0.5℃
材料温度精度 ±1℃
冷却能力 0.5kW~80kW
加熱能力 5.5kW~80kW
媒体温度精度 ±0.5℃
材料温度精度 ±1℃
冷却能力 0.7kW~80kW
加熱能力 5.5kW~80kW
媒体温度精度 ±0.5℃
材料温度精度 ±1℃
循環液温調装置の応用
現在、SUNDI 循環液温調装置シリは化学反応器の温度制御、医薬バイオ発酵、半導体検査などの場面で広く使用され、実験と生産プロセスにおける温度の正確性と結果の再現性を確保しています。
半導体製造、バイオ医薬品、新エネルギー電池の試験など、温度に敏感な分野では、高温と低温のプロセスを交互に行うという課題はどこにでもあります。以下のようなプロセスでは、チラーとヒーターが必要です。
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