LTS -20℃~80

2023-05-17 1438

半導体製造プロセスにおいて、反応チャンバーの温度制御、ヒートシンクの温度制御、熱媒の不燃性流体の温度制御に広く使用されている。

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LTS -40℃~80

2023-05-17 1547

It is widely used in the semiconductor manufacturing process to control the temperature of the reaction chamber, the temperature of the heat sink, and the temperature control of the non-flammable fluid of the heat transfer...

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LTS -60℃~80

2023-05-17 1505

半導体製造プロセスにおいて、反応チャンバーの温度制御、ヒートシンクの温度制御、熱媒の不燃性流体の温度制御に広く使用されている。

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LTS -80℃~80

2023-05-17 1499

半導体製造プロセスにおいて、反応チャンバーの温度制御、ヒートシンクの温度制御、熱伝達手段の不燃性流体の温度制御に広く使用されている。

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