酸化拡散プロセスにおける温度制御と冷却装置

2024-07-02 732

酸化拡散プロセスは、半導体製造における重要なステップである。主に精密な酸化膜の形成とドーピングに使用され、温度制御には極めて厳しい条件が要求される。このプロセスでは、チラーが重要な...

詳細を見る