LNEYA工業用冷凍機 メーカー サプライヤー
冷凍加熱循環器、チラーヒーターコンボ -120~350℃
アプリケーション
| Reactor kettle | 発酵タンク | Micro-reactor | 管状反応器 |
| 真空チャンバー | Freeze-drying machine | Multiphase reactor | Aerospace Material Testing |
| Petrochemical Treatment | Gas chromatograph | Rotary evaporator | Pilot plant |
| 注入水システム | Pharmaceutical water system | Neutralization reaction | Decomposition reaction |
| oxidation reaction | Polymerization reaction | Crystallization reaction | Fermentation reaction |
| Oil decomposition | Concentration reaction | Extraction System | Test Bench |
| Gas Condensation | Semiconductor Testing equipment | Fab equipment | AOI system CMOS/CCD |
| Tool machine | Bioreactor | Vehicle Testing | Laboratory research |
原子炉の温度制御用
半導体試験用
for jacket reactor
for Laboratory research
動的温度制御システムは、優れた性能、高精度、インテリジェントな温度制御、および -120°C ～ 350°C の非常に広い温度制御範囲を備えており、ほとんどの企業の一定温度制御ニーズに適しています。
私達は多くのモデルを持っています：SUNDIシリーズ、WTDシリーズ、KRYシリーズ、LTSシリーズなど。製品の温度制御精度は±0.1℃に達することができ、対応する製品は冷凍電力0.5kWから1200kWまで提供することができます。
Special note:
SUNDIシリーズの水冷式製品（加熱出力15kW以下）の場合、凝縮器にはプレート式熱交換器が採用されており、工場の清浄水を使用する必要があります。給水にはチラーまたは密閉式冷却塔のご使用をお勧めします。
(SUNDI series)
温度制御範囲：-120℃～+350
反応器内の冷熱源の動的制御、温度制御精度は±0.3℃に達する
| 温度範囲 | SUNDI 320W | スンディ -10℃~150 | スンディ -25℃〜300 | スンディ -45℃〜250 | スンディ -60℃~250 | スンディ -80℃~250 | スンディ -90℃~250 | SUNDI -100℃~100℃ |
| 冷却能力 | 2.1KW~15KW | 3.5KW~200KW | 2.5KW~200KW | 0.4KW~20KW | 2.5KW~60KW | 3KW~80KW | 5.5KW~20KW | 5.5KW~80KW |
| 加熱パワー | 3.5KW~15KW | 3.5KW~200KW | 0.25KW~200KW | 3.5KW~15KW | 0.25KW~60KW | 0.3KW~80KW | 0.5KW~80KW | 0.7KW~80KW |
| Medium Temp Accuracy | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±0.5℃ | ±0.5℃ |
| Material Temp Accuracy | ±1℃ | ±0.1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
(WTD series)
（マイクロチャンネル・チューブリアクター特化型）
温度制御範囲：-70℃～+300
マイクロ流路に特化した設計（液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、循環システムの圧力損失が高い）
WTDスタンダード
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WTD-2TE
これは、マイクロチャンネル反応器の循環システムにおいて、液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、圧力損失が大きいという特性に合わせて特別に設計・開発されたものである。
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WTD-デュアル温度ゾーン
これは、マイクロチャンネル反応器の循環システムにおいて、液体保持容量が小さく、熱交換容量が大きく、圧力損失が大きいという特性に合わせて特別に設計・開発されたものである。
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((SUNDI Z Frequency Conversion series)
温度制御範囲: -80°C～+250°C
SUNDI製品と比較して、冷凍システムと循環システムは周波数変換制御を採用しており、旧製品と比較して20％以上のエネルギーを節約し、5デシベル以上の騒音を低減し、始動電流が小さくなっています。
| 温度範囲 | SUNDI Z -45℃～250℃ | SUNDI Z -80℃～+250℃ |
| 冷却能力 | 0.9KW~60KW | 0.4KW~20KW |
| 加熱パワー | 5.5KW~60KW | 3.5KW~15KW |
| Medium Temp Accuracy | ±0.1℃ | ±0.1℃ |
| Process Temp Accuracy | ±0.3℃ | ±0.3℃ |
冷暖房サーキュレーター
温度制御範囲：-45℃～+250
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HR -25℃～200
The cooler is a very important part of the screw air compressor. The main function is to cool the lubricating oil of air compressor and the compressed air. If it’s blocked, then the temperature will go up. A…
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HRT -45℃～250
The cooler is a very important part of the screw air compressor. The main function is to cool the lubricating oil of air compressor and the compressed air. If it’s blocked, then the temperature will go up. A main cause of t…
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TCU 温度制御ユニット
(製薬・化学工場生産レベル）
温度制御範囲：-120°C～+250°C
用途：化学、製薬、石油化学、生物などの産業、中国式作業場や製薬、化学工場生産用の各種反応器、蒸留器、抽出システム、発酵タンクなどの大規模生産レベルの温度制御要件。
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TCS series Distributed Temperature Control System
APPLICATIONS The automatic temperature control system of this project uses computer control technology, which can enable the process operation and parameters of pharmaceutical production to be scientifically, effectively and strictly mo…
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SR & ZLF series TCU Reactor Cooling Heating Temperature Control System
APPLICATIONS TCU temperature control system uses existing thermal energy (such as steam, cooling water and ultra-low temperature liquid – the “primary system”) infrastructure to integrate into a single fluid system or secondary loop use…
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| モデル | 加熱パワー | Material Accuracy | Power Range | Power with”H” |
| SRシリーズ | 25kW~80kW | ±1℃ | 2.3kW~10.5kW | 27.3kW~90.5kW |
| ZLFシリーズ | 25kW~80kW | ±1℃ | 2.3kW~10.5kW | 27.3kW~90.5kW |
カスタマイズされた冷却加熱温度制御システム
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メリット
- 冷却力 0.5kW~1200kW
- 加熱パワー 2kW~200kW
- 高精度でインテリジェントな温度制御
- 多機能アラームシステムと安全機能
- 7インチ、10インチカラーTFTタッチスクリーン・グラフィックディスプレイ
- 磁気駆動ポンプでは、シャフトシールの漏れの問題はありません。
- 300℃から直接冷却できる高温冷却技術
- 効率的な生産安定性と再現性のある結果
- 完全に密閉されたシステムで、液体媒体を交換する必要なし
動作原理
特別に設計されたラグ推定器（モデルフリー自己構築木アルゴリズム）は、フィードバック信号としてプロセス変数y(t)の代わりに動的信号yc(t)を生成する。コントローラが制御効果を予測する際に大きなヒステリシスを持たないように、コントローラにe(t)信号を生成し、コントローラが常に適切な制御信号を生成できるようにする。つまり、この動的信号yc(t)は、大きなラグがあってもフィードバックループを正常に働かせることができる。
アプリケーション
- 高圧反応器の動的温度制御
- 二重層ガラス反応器の動的温度制御
- 二重層炉の動的温度制御
- マイクロチャンネル反応器温度制御
- 蒸留システムの温度制御
- 低温および高温での材料老化試験
- コンビナトリアル化学恒温制御
- 半導体装置の冷却と加熱
- 真空チャンバーの冷却と加熱制御
1.Reactor 2.Vacuum chamber 3.Experimental instruments 4.Micro-channel
1.Semiconductor equipment 2.Mechanical assembly 3.Dryer 4.Evaporator
TCU installation site for integrated temperature control equipment of reaction kettle system in pharmaceutical enterprises
LNEYA’s industrial chiller cooling equipment is sold globally. Singapore, Malaysia, Japan, South Korea, various European countries, and the United States and other regions.
Low Temp/Normal Temp Chillers (Biochemistry Pharmaceutical Process)
Temperature Control :-5℃~-150℃
さまざまなリアクター、蒸留または抽出システム、実験室、研究機関、化学、製薬、石油化学、生化学、医療、病院、研究開発ワークショップ、半導体テスト、航空宇宙、生物学などの温度制御。
温度制御フローシステム（車両・バッテリーパック試験）
温度制御: -40℃~100
温度シミュレーション for vehicle quality test:
バッテリー寿命テスト、燃料噴射装置/モーターテストベンチ、エアバッグテスト、コンポーネントテストベンチなど。それは、気候室の外部環境条件をシミュレートしたり、テストベンチに必要な実際の温度条件を作成することができ、内部システムを置き換えることができます。
冷却加熱システム（半導体製造）
温度制御: -85℃~250
Suitable for semiconductor process wet washing, photolithography, etching, chemical meteorological deposition, physical meteorological deposition, and the electronics industry (photolithography process)
Customized Chiller Heater Combo Solutions
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