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マルチ・チャンネル・チラー

半導体産業向けデュアルまたはトリプル・チャンネル・チラー
温度範囲 -45℃~90℃ 温度精度 ±0.1℃

  • 同一/異なる仕様の2チャンネル以上を1つのハウジングに搭載;
  • 1つのメインフレームで2つの流体チャンネルシステムの温度を個別に制御可能;
  • 1つの電源システムで2チャンネルの温度制御を実現し、配線作業時間を短縮;
  • インバータ震動、インバータ震動、電子膨張弁を同時に制御することで、熱による煩わしさの中でも温度安定性を良好に保つことが可能;
  • メカニカルシールのないポンプを採用。ポンプは定期的に放電をチェックする必要があり、メカニカルシールも交換する必要ある

FLTZマルチチャンネル・チラーには、2チャンネルと3チャンネルの標準モデルがあります。特殊な用途には、チャンネル数、制御パラメータ、機器など、お客様の特定の要件寸法に基づいたカスタマイズソリューションを提供します。工業用チラーの標準カタログやカスタムプロセスチラーについては、弊社営業チームまでお問い合わせください。

FLTZ -25℃~90℃
サーマルチラー

冷却容量 2kW~15kW
冷却水流量 1.2m3/h~10.2m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

FLTZ -45℃~90℃
低温スリラー

冷却容量 1kW~8kW
冷却水流量 1.5m3/h~8m3/h
温度調整精度 ±0.1℃

FLTZ -80℃~+90℃
循環の水スリラー

冷却容量 0.6kW~3kW
冷却水の流れ 1.8m3/h~6m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

FLTZ -100℃~+90℃
循環のスリラー

冷却容量 1.5kW~3kW
冷却水の流れ 50L/min~100L/min 2bar~7bar
温度調整の精密 ±0.1℃

型番 FLTZ-203W-2T
管路 チャンネル1 チャンネル2
温度制御範囲 -20℃~+90℃ -20℃~+90℃
温度制御精度 ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能)
冷却能力 4kW@-10℃ 4kW@-10℃
加熱能力 2kW 2kW
流量/圧力 MAX 20L/min 0.5MPa 20L/min 0.5MPa
熱伝導メディアの接続端子 ZG3/4 ZG3/4
環境温度 10~35℃ 10~35℃
環境湿度 30~70% 30~70%
冷却水温度 15~20℃ 15~20℃
冷却水流量 20L/min 20L/min
インタラプタ 30A
作業工程の温度管理 遠隔地の目標温度は、自己モデリング、自己構築ツリー・アルゴリズム、カスケード・アルゴリズム(動的温度制御)の組み合わせに基づいて制御できる
重量 400kg
装置外寸cm 50*90*160
型番 FLTZ-406W/ETCU-015W
管路 チャンネル1 チャンネル2
温度制御範囲 -45℃~+40℃ +10℃~+80℃
温度制御精度 ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能)
冷却能力 11kW@-20℃
5kW@-40℃
13kW@+10℃
加熱能力 2kW 6kW
流量/圧力 MAX 17L/min 0.7MPa 17L/min 0.7MPa
熱伝導メディアの接続端子 ZG3/4 ZG3/4
環境温度 10~35℃ 10~35℃
環境湿度 30~70% 30~70%
冷却水温度 15~20℃ 15~20℃
冷却水流量 40L/min 20L/min
インタラプタ 80A
作業工程の温度管理 遠隔地の目標温度は、自己モデリング、自己構築ツリー・アルゴリズム、カスケード・アルゴリズム(動的温度制御)の組み合わせに基づいて制御できる
重量 550kg
装置外寸cm 60*100*185

型番 FLTZ-203W/ETCU-008W
管路 チャンネル1 チャンネル2 チャンネル3
温度制御範囲 -10℃~+60℃ +30℃~+80℃ -10℃~+80℃
温度制御精度 ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能)
冷却能力 4kW@-10℃/21kW@+20℃ 6 kW@+30℃ 3kW@-10℃
加熱能力 4kW 4.5+6kW 3kW
流量/圧力 MAX 17L/min 0.7MPa 17L/min 0.7MPa 17L/min 0.7MPa
熱伝導メディアの接続端子 ZG3/4 ZG3/4 ZG3/4
環境温度 10~35 ℃ 10~35 ℃ 10~35 ℃
環境湿度 30~70% 30~70% 30~70%
冷却水温度 15~20℃ 15~20℃ 15~20℃
冷却水流量 30L/min@15~20℃ 15L/min@15~20℃ 15L/min@15~20℃
インタラプタ 100A
作業工程の温度管理 セルフモデリング、セルフツリーアルゴリズム、カスケードアルゴリズムを組み合わせることで、リモートターゲットの温度を制御することができる
重量 600kg
装置外寸cm 60*100*170
型番 FLT-215W/ETCU-015W/ETCU-008W
管路 チャンネル1 チャンネル2 チャンネル3
温度制御範囲 -20℃~+50℃ +30℃~+100℃ +30℃~+40℃
温度制御精度 ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能)
冷却能力 15kW@-10℃ 13kW@PCW+15℃ 8kW@PCW+10℃
加熱能力 2kW 6kW Pump Heat Loss
流量/圧力 MAX 30L/min 0.85MPa 30L/min 0.85MPa 20L/min 0.8MPa
熱伝導メディアの接続端子 ZG3/4 ZG3/4 ZG3/4
環境温度 10~35 ℃ 10~35 ℃ 10~35 ℃
環境湿度 30~70% 30~70% 30~70%
冷却水温度 15~20℃ 15~20℃ 15~20℃
冷却水流量 30L/min@15~20℃ 15L/min@15~20℃ 15L/min@15~20℃
インタラプタ 75A
作業工程の温度管理 遠隔地の目標温度は、自己モデリング、自己構築ツリー・アルゴリズム、カスケード・アルゴリズム(動的温度制御)の組み合わせに基づいて制御できる
重量 600kg
装置外寸cm 60*100*170

FLTZマルチチャンネルチラーは、精密な温度制御、独立した回路管理、急速冷却などの利点から、半導体業界で広く使用されています。半導体チラーの適用分野には、ウェーハ製造、パッケージング試験、フォトリソグラフィー、エッチング、CVD/PVD成膜、洗浄プロセスなどがあります。

イオン注入

イオン注入中に生成される高エネルギー粒子ビームは、局所的に高温を引き起こす可能性があります。プロセスチラーは、ウェハへの熱ダメージを防ぐために、熱を素早く除去します。

エッチング

プラズマエッチング(RIE、ICPなど)では、エッチングの均一性を確保するために、チャンバーと電極を厳密に温度制御する必要があります。チラーはエッチング装置に安定した温度環境を提供し、プロセス偏差を低減します。

チップパッケージ

BGA、CSP、FCBGAなどのパッケージング工程では、溶接やパッケージ材料の温度管理が信頼性に影響します。

PVD/CVD

薄膜堆積にはCVD(LPCVD、PECVDなど)やPVD(スパッタリングコーティングなど)が使用され、チャンバーと基板の温度制御が膜の品質に影響を与えます。

フォトリソグラフィ

パターン精度を確保するために、フォトリソグラフィー装置の露光システム、光学レンズ、レーザー光源、マスクプレートには正確な温度制御が必要です。

ウェット洗浄

フォトレジスト残留物、金属汚染物質、粒子状物質を除去するために、脱イオン水を特定の温度範囲内に維持するのに役立ちます。

複数の異なる装置またはプロセスに対して独立した温度制御が必要であり、複数の独立したチラーを購入したくない場合は、FLTZ マルチチャネル チラーが非常に理想的な選択肢です。

継続的なイノベーション
LNEYAは90件以上の技術特許を保有し、技術者数は全従業員の20%を占めています。継続的な研究開発投資により、高温・低温一体型マシン、動的温度制御システム、低温冷凍庫など、複数の分野をカバーする製品を開発しています。
 
迅速な対応
LNEYA は、ヨーロッパ、シンガポール、マレーシア、日本、韓国、カタール、オーストラリア、米国などの地域にチラー代理店とサービスチームを配置し、世界中のユーザーに 24 時間体制の迅速な対応サービスを提供しています。

冷却能力、電源、サイズなど、お客様のご要望に合わせてカスタマイズいたします。チラーの電圧と位相は、お客様のニーズに合わせてカスタマイズいたします。

一般的に、当社のマルチチャンネルウォーターディスペンサーには、デュアルチャンネルとトリプルチャンネルの2種類があります。
その他のチャンネルをご希望の場合は、カスタマイズについてお問い合わせください。

LNEYA は、半導体チラー用の温度制御システムを提供するだけでなく、下流工程でのテスト用のガス冷却装置や温度チャンバーも提供しています。

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