LNEYA®マルチチャンネルチラーがお客様の用途に合わない場合
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マルチチャンネル・チラー ビデオ

冷却容量 2kW~15kW
冷却水流量 1.2m3/h~10.2m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

冷却容量 1kW~8kW
冷却水流量 1.5m3/h~8m3/h
温度調整精度 ±0.1℃

冷却容量 0.6kW~3kW
冷却水の流れ 1.8m3/h~6m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

冷却容量 1.5kW~3kW
冷却水の流れ 50L/min~100L/min 2bar~7bar
温度調整の精密 ±0.1℃
| 型番 | FLTZ-203W-2T | |
| 管路 | チャンネル1 | チャンネル2 |
| 温度制御範囲 | -20℃~+90℃ | -20℃~+90℃ |
| 温度制御精度 | ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能) | |
| 冷却能力 | 4kW@-10℃ | 4kW@-10℃ |
| 加熱能力 | 2kW | 2kW |
| 流量/圧力 MAX | 20L/min 0.5MPa | 20L/min 0.5MPa |
| 熱伝導メディアの接続端子 | ZG3/4 | ZG3/4 |
| 環境温度 | 10~35℃ | 10~35℃ |
| 環境湿度 | 30~70% | 30~70% |
| 冷却水温度 | 15~20℃ | 15~20℃ |
| 冷却水流量 | 20L/min | 20L/min |
| インタラプタ | 30A | |
| 作業工程の温度管理 | 遠隔地の目標温度は、自己モデリング、自己構築ツリー・アルゴリズム、カスケード・アルゴリズム(動的温度制御)の組み合わせに基づいて制御できる | |
| 重量 | 400kg | |
| 装置外寸cm | 50*90*160 | |
| 型番 | FLTZ-406W/ETCU-015W | |
| 管路 | チャンネル1 | チャンネル2 |
| 温度制御範囲 | -45℃~+40℃ | +10℃~+80℃ |
| 温度制御精度 | ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能) | |
| 冷却能力 | 11kW@-20℃ 5kW@-40℃ |
13kW@+10℃ |
| 加熱能力 | 2kW | 6kW |
| 流量/圧力 MAX | 17L/min 0.7MPa | 17L/min 0.7MPa |
| 熱伝導メディアの接続端子 | ZG3/4 | ZG3/4 |
| 環境温度 | 10~35℃ | 10~35℃ |
| 環境湿度 | 30~70% | 30~70% |
| 冷却水温度 | 15~20℃ | 15~20℃ |
| 冷却水流量 | 40L/min | 20L/min |
| インタラプタ | 80A | |
| 作業工程の温度管理 | 遠隔地の目標温度は、自己モデリング、自己構築ツリー・アルゴリズム、カスケード・アルゴリズム(動的温度制御)の組み合わせに基づいて制御できる | |
| 重量 | 550kg | |
| 装置外寸cm | 60*100*185 | |
| 型番 | FLTZ-203W/ETCU-008W | ||
| 管路 | チャンネル1 | チャンネル2 | チャンネル3 |
| 温度制御範囲 | -10℃~+60℃ | +30℃~+80℃ | -10℃~+80℃ |
| 温度制御精度 | ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能) | ||
| 冷却能力 | 4kW@-10℃/21kW@+20℃ | 6 kW@+30℃ | 3kW@-10℃ |
| 加熱能力 | 4kW | 4.5+6kW | 3kW |
| 流量/圧力 MAX | 17L/min 0.7MPa | 17L/min 0.7MPa | 17L/min 0.7MPa |
| 熱伝導メディアの接続端子 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 |
| 環境温度 | 10~35 ℃ | 10~35 ℃ | 10~35 ℃ |
| 環境湿度 | 30~70% | 30~70% | 30~70% |
| 冷却水温度 | 15~20℃ | 15~20℃ | 15~20℃ |
| 冷却水流量 | 30L/min@15~20℃ | 15L/min@15~20℃ | 15L/min@15~20℃ |
| インタラプタ | 100A | ||
| 作業工程の温度管理 | セルフモデリング、セルフツリーアルゴリズム、カスケードアルゴリズムを組み合わせることで、リモートターゲットの温度を制御することができる | ||
| 重量 | 600kg | ||
| 装置外寸cm | 60*100*170 | ||
| 型番 | FLT-215W/ETCU-015W/ETCU-008W | ||
| 管路 | チャンネル1 | チャンネル2 | チャンネル3 |
| 温度制御範囲 | -20℃~+50℃ | +30℃~+100℃ | +30℃~+40℃ |
| 温度制御精度 | ±0.1℃(温度制御精度は±0.01℃のカスタマイズが可能) | ||
| 冷却能力 | 15kW@-10℃ | 13kW@PCW+15℃ | 8kW@PCW+10℃ |
| 加熱能力 | 2kW | 6kW | Pump Heat Loss |
| 流量/圧力 MAX | 30L/min 0.85MPa | 30L/min 0.85MPa | 20L/min 0.8MPa |
| 熱伝導メディアの接続端子 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 |
| 環境温度 | 10~35 ℃ | 10~35 ℃ | 10~35 ℃ |
| 環境湿度 | 30~70% | 30~70% | 30~70% |
| 冷却水温度 | 15~20℃ | 15~20℃ | 15~20℃ |
| 冷却水流量 | 30L/min@15~20℃ | 15L/min@15~20℃ | 15L/min@15~20℃ |
| インタラプタ | 75A | ||
| 作業工程の温度管理 | 遠隔地の目標温度は、自己モデリング、自己構築ツリー・アルゴリズム、カスケード・アルゴリズム(動的温度制御)の組み合わせに基づいて制御できる | ||
| 重量 | 600kg | ||
| 装置外寸cm | 60*100*170 | ||
マルチチャンネルチラーの用途
FLTZマルチチャンネルチラーは、精密な温度制御、独立した回路管理、急速冷却などの利点から、半導体業界で広く使用されています。半導体チラーの適用分野には、ウェーハ製造、パッケージング試験、フォトリソグラフィー、エッチング、CVD/PVD成膜、洗浄プロセスなどがあります。

イオン注入中に生成される高エネルギー粒子ビームは、局所的に高温を引き起こす可能性があります。プロセスチラーは、ウェハへの熱ダメージを防ぐために、熱を素早く除去します。

プラズマエッチング(RIE、ICPなど)では、エッチングの均一性を確保するために、チャンバーと電極を厳密に温度制御する必要があります。チラーはエッチング装置に安定した温度環境を提供し、プロセス偏差を低減します。


薄膜堆積にはCVD(LPCVD、PECVDなど)やPVD(スパッタリングコーティングなど)が使用され、チャンバーと基板の温度制御が膜の品質に影響を与えます。


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