半導体クーラーのエキスパート
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お客様のニーズを満たすカスタマイズされたプロセス温度制御ソリューション。
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小型、高精度、環境にやさしい
温度範囲 -100℃~90℃ 温度精度 ±0.1℃
LNEYA は国際的な先進的な液体温度制御技術に代わって、積極的に電子テストシステムの温度テストシミュレーションを探求し、研究し、広い温度方向と温度の高い昇降範囲、温度範囲:-100 ℃ ~ +90 ℃、温度制御精度が高い:± 0.1 ℃です。
製品は、流体-液体温度制御(最小-100℃)を含み、複数の連続温度制御をサポートしています。工場を出荷する前に、すべての機器は100%のモジュール検査、100%の安全性テストを行い、システムの安全性と信頼性を確保します。

高精度プロセスチラービデオ

冷却容量 2kW~15kW
冷却水流れ 1.2m3/h~10.2m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

冷却容量 1kW~8kW
冷却水流れ 1.5m3/h~8m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

冷却容量 0.6kW~3kW
冷却水の流れ 1.8m3/h~6m3/h
温度制御精度 ±0.1℃

冷却容量 1.5kW~3kW
冷却水の流れ 50L/min~100L/min 2bar~7bar
温度制御精度 ±0.1℃
半導体チラーのアプリケーションについてもっと知る
半導体の製造は非常に高い環境の条件のプロセス、厳密な温度調整プロダクトの性能を決定します。半導体チラーは、半導体業界のパッケージングテストプロセス、半導体FABプロセス温度制御、CMOS / CCDセンサー冷却の半導体計測システム、循環冷却の半導体計測AOIシステム、キャビティ側壁独立温度制御、プラズマランプエッチングと蒸着、タングステン金属熱原子層エッチングで一般的に使用されています。



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